文章目录
lam research创始人？
创始人是：林杰屏
我们在《光刻机之战》中讨论跨越193nm时，曾提到尼康和IBM押宝EBDW(E-beam Direct Write，电子束直写；或叫EPL，电子束投射)。
100KeV电子束的波长只有0.004nm，分辨率对比EUV优势太大了。而且电子束可以用成熟的磁透镜，不像EUV那样得用反射镜。
Evertron的作用？
是用于电子蒸发沉积（E-beam evaporation）过程中，控制电子束的轨迹和流量。
这个设备可以将电子束聚焦成一个几乎为点的光束，从而使得材料的蒸发非常均匀，生成的薄膜就可以有高度精确的厚度和复合度。
此外，Evertron还可以精确控制电子束的流量，从而精度更高地控制沉积速率。
在电子器件、太阳能电池、显示器等许多领域都得到了广泛的应用。
到此，以上就是小编对于ebeam设备的问题就介绍到这了，希望介绍的2点解答对大家有用，有任何问题和不懂的，欢迎各位老师在评论区讨论，给我留言。
微信扫一扫打赏
